玻璃是我們?nèi)粘Ｉ钪薪?jīng)常接觸和使用的物品，從玻璃杯這類生活用品到玻璃幕墻一類的建筑裝飾材料，玻璃為世界文明的發(fā)展做出了較大的貢獻(xiàn)。例如我們常常聽說(shuō)的玻璃絲印加工市場(chǎng)，常用于制造玻璃絲印加工市場(chǎng)，性能出眾。接下來(lái)我們將簡(jiǎn)單介紹玻璃絲印加工設(shè)備，說(shuō)明蒙砂玻璃制作工藝。

一、玻璃絲印需要哪些設(shè)備

        1、油墨：油墨是絲印必須用到的，沒(méi)有油墨哪里來(lái)的圖案。油墨分很多顏色，調(diào)油墨是絲印師傅必須學(xué)會(huì)的。

        2、網(wǎng)板：網(wǎng)板是為玻璃印上圖案準(zhǔn)備的。網(wǎng)板上首先抹上感光膠，再結(jié)合菲林、強(qiáng)燈光把圖案做到網(wǎng)板上來(lái)。把菲林放在網(wǎng)板下面，再用強(qiáng)光曝曬網(wǎng)板上的感光膠、做完后再?zèng)_洗掉菲林擋住部分的感光膠，圖案就做出來(lái)了。

        3、烤箱：烤箱讓我們想到了烘烤，沒(méi)錯(cuò)，就是把玻璃放到烤箱里去烘烤，玻璃印上圖案之后，上面的油墨沒(méi)有很快的干掉，如果這個(gè)時(shí)候去拿玻璃會(huì)碰到油墨，這樣會(huì)破壞圖案。經(jīng)過(guò)烤箱之后，油墨便會(huì)干掉，圖案也不會(huì)輕易的抹掉。

        4、鋼化爐：為什么要經(jīng)過(guò)鋼化爐？絲印有分高溫絲印油墨和低溫絲印油墨，高溫絲印油墨就必須要先絲印后再經(jīng)過(guò)鋼化爐。這樣油墨與玻璃表面結(jié)合在一起，這時(shí)你想擦掉油墨就不可能了。

二、蒙砂玻璃加工工藝

        1．底稿：用電腦設(shè)計(jì)所需的花紋。小幅面可用激光打印機(jī)輸出底片，大幅面可利用電腦刻繪機(jī)刻到黑色即時(shí)貼上或用激光照排機(jī)輸出都可。

        2．制網(wǎng)版：使用網(wǎng)版請(qǐng)用100-180目滌綸絲網(wǎng)，建議選用單絲滌綸網(wǎng)布為佳，用水性感光膠制版。

        3．印刷玻璃蝕刻油墨：印刷前需清除玻璃表面的污、濕，充分?jǐn)嚢杳缮案啵捎描F器，建議用“竹木”制品.印刷時(shí),需在網(wǎng)版上刮印二次,其目的是增加墨料.如手工印刷可把蝕刻油墨從一端刮到另一端,再把刮板提起放在油墨的后面,再刮向印的一端.其目的是增加印料.也就是說(shuō)在玻璃表面達(dá)到理想的墨量.如果印刷在冬天時(shí)應(yīng)把蝕刻油墨加溫到百分之20-百分之40使用為佳.使用玻璃時(shí)必須選用浮法玻璃,平板玻璃不可取。因?yàn)樵摬ＡУ暮癖〔粍颍诓Ａе谱鳠釅汉�，冷卻不均勻使玻璃的材質(zhì)結(jié)構(gòu)不勻，所以即使印后，蝕刻出的平面效果也好壞不均。

        4．沖洗：把先印好的玻璃停放三分鐘后放到水池中沖洗或用皮管接自來(lái)水沖洗即可，等玻璃上的水干后，呈現(xiàn)出一種雪花般的圖紋。這種玻璃在市場(chǎng)很流行，得到廣大消費(fèi)者的喜愛(ài)。利用以上工藝可制用出如茶具、工藝品、社鏡、玻璃容器等。

相關(guān)概念

玻璃

        玻璃是非晶無(wú)機(jī)非金屬材料，一般是用多種無(wú)機(jī)礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長(zhǎng)石、純堿等)為主要原料，另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學(xué)組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸鹽復(fù)鹽，是一種無(wú)規(guī)則結(jié)構(gòu)的非晶態(tài)固體。廣泛應(yīng)用于建筑物，用來(lái)隔風(fēng)透光，屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類而顯現(xiàn)出顏色的有色玻璃，和通過(guò)物理或者化學(xué)的方法制得的鋼化玻璃等。有時(shí)把一些透明的塑料（如聚甲基丙烯酸甲酯）也稱作農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系玻璃。

掩模

        掩模版（mask）簡(jiǎn)稱掩模，是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設(shè)計(jì)圖形，光線透過(guò)它，把設(shè)計(jì)圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機(jī)中，掩模作為一個(gè)光學(xué)元件位于會(huì)聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模上的圖形縮小4~10倍（現(xiàn)代光刻機(jī)一般都是縮小4倍）后透射在晶圓表面。為了區(qū)別接觸式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被稱為倍縮式掩模（reticle）。

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