鉬靶材主要用于平面顯示行業(yè)，屬于鉬金屬制品生產(chǎn)鏈頂端產(chǎn)品，技術含量高、生產(chǎn)難度大。UVTM自主研發(fā)、生產(chǎn)出具有完全知識產(chǎn)權的4.5代、5.0代、5.5代靶材，產(chǎn)品規(guī)格一次一次刷新紀錄。靶中毒的影響因素，靶中毒現(xiàn)象（1）正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現(xiàn)象。一般我們使用的靶材不外乎三種類型，金屬靶材、合金靶材、化合物靶材。硬碟使用的靶材有很多，在記錄面上鍍上多層的薄膜。

每層薄膜有各自的功效，在底層，會鍍上40nm厚的鉻或者鉻合金，增強結合力和抗腐蝕能力，中間再鍍上15nm厚的鈷鉻合金，再鍍上35nm厚的鈷合金，作為磁性材料，這種材料可以充分體現(xiàn)磁性和低干擾的特性，后再鍍上15nm厚的碳薄膜。鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。濺射：即集成電路制造過程中要反復用到的工藝；靶材：就是濺射工藝中必不可少的重要原材料。那么，不同應用領域，對材料的選擇及性能要求也有一定差異。磁控濺射靶是真空磁控濺射鍍膜的核心部件，半導體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應用領域之一。

硅靶材的成分、籌備和性能要求高的領域。具體來講，半導體芯片的制作過程可分為硅片制造、晶圓制造和芯片封裝等三大環(huán)節(jié)，其中，在晶圓制造和芯片封裝這兩個環(huán)節(jié)中都需要用到金屬濺射靶材。靶材是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。我國ITO靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及其對我國觸控面板產(chǎn)業(yè)的影響。氧化銦錫(IndiumTinOde)，作為一種n型半導體材料，具有高的導電率、高的可見光透過率、高的機械硬度和良好的化學穩(wěn)定性，液晶顯示器(LCD)、等離子顯示器(PDP)、電致發(fā)光顯示器(EL/OLED)、觸摸屏(TouchPanel)、太陽能電池以及其他電子儀表的透明電極上廣泛應用。德純金屬靶材。靶材主要應用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導體等領域。

濺射鍍膜技術起源于國外，所需要的濺射材料——靶材也起源發(fā)展于國外。高純?yōu)R射靶材伴隨著半導體工業(yè)的發(fā)展而興起，是典型的技術密集型產(chǎn)業(yè)，以美、日企業(yè)為代表的國外企業(yè)占強勢地位。日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、住友化學、愛發(fā)科等占據(jù)著大部分國家靶材市場的80%的份額，****國內。靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。

中國的半導體行業(yè)正處于成長關鍵期，材料和技術仍依賴****，即便國內的已得到控制，但受到國際市場影響，圍繞半導體行業(yè)的焦慮仍在鏈條上下蔓延。市場的萎靡在一季度或許體現(xiàn)不太明顯，因為各廠家手中都有積壓訂單。二季度后，需求端的疲軟將會更大程度地在企業(yè)的業(yè)績中釋放，國際大廠目前都已大幅下修財測。Oled對靶材有什么要求？難度會高些，量的話可能會對鋁靶材高些，因為需要折疊，銅的不行。品名：噴涂硅鋁靶供應硅鋁旋轉靶材產(chǎn)地：陜西寶雞材質：Si、Al規(guī)格：可以按照用戶需要定制。應用領域：應用于玻璃鍍膜(建筑玻璃和汽車玻璃)工業(yè)等行業(yè)。制作工藝：真空磁懸浮熔煉，澆鑄成錠，熱機械處理和準確機械加工。金屬靶材。高純?yōu)R射靶材的市場規(guī)模日益擴大。

由于濺射鍍膜工藝起源于國外，所需要的濺射靶材產(chǎn)品性能要求高、專業(yè)應用性強，因此，長期以來大部分國家濺射靶材研制和生產(chǎn)主要集中在美國、日本少數(shù)幾家公司，產(chǎn)業(yè)集中度相當高。以霍尼韋爾（美國）、日礦金屬（日本）、東曹（日本）等跨國集團為代表的濺射靶材生產(chǎn)商較早涉足該領域，經(jīng)過幾十年的技術積淀，憑借其雄厚的技術力量、精細的生產(chǎn)控制和過硬的產(chǎn)品質量居于大部分國家濺射靶材市場的主要地位，占據(jù)絕大部分市場份額。這些企業(yè)在掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術以后，實施極其嚴格的保密措施，限制技術擴散，同時不斷進行橫向擴張和垂直整合，將業(yè)務觸角積極擴展到濺射鍍膜的各個應用領域，牢牢把握著大部分國家濺射靶材市場的主動權，并帶領著大部分國家濺射靶材行業(yè)的技術進步。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節(jié)能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術開發(fā)和應用的重要高新技術企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點，經(jīng)過10多年的開拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術不斷迭代與升級，尤特的技術及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學體系管理，先后通過《質量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術創(chuàng)新，先后與"武漢大學"、"華南理工大學"、"中南大學"等高校、研究所建立"產(chǎn)學研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權，是廣州市扶持科技型要點培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關機構的授予多個榮譽：如“國家生產(chǎn)力促進獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創(chuàng)造價值，分享價值“的核心價值觀，借鑒以往成功管理運營經(jīng)驗，持續(xù)深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場，不斷拓寬市場應用領域，做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

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