鈮鋯合金既保持了鈮的低溫塑性,具有比純鈮高的力學性能。鋯加入鈮中可提高合金的強度而不影響合金的塑性和加工性能,提高鈮的高溫強度和高溫舒緩反應性,鋯還可以改善合金的舒緩反應性和抗堿金屬腐蝕性能。NbZr10是一種新型的功能性鈮合金材料,經過電弧爐熔煉,加入活性金屬元素Zr進行固溶強化,同時加入C元素進行時效強化,通過適當?shù)募庸ず蜔崽幚韥砜刂瞥恋硐嗵蓟锏男螒B(tài)的分布,以提高NbZr10合金材料的強度,并且能夠較大的改善該合金高溫抗蠕變性能。通過控制鈮板和鋯板原料雜質成分,以控制合金鑄錠的間隙元素含量,保合金成分合理。NbZr10合金鑄錠整體成分較均勻。利用熱軋試驗對NbZr10合金進行高溫加工，合金坯料變形均勻,沒有明顯裂邊現(xiàn)象,合金籌備為顯著的熱加工流線型,發(fā)生回復再結晶。提高其綜合力學性能。

濺射靶材的分類金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材，氮化物陶瓷濺射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材，硅化物陶瓷濺射靶材，硫化物陶瓷濺射靶材，碲化物陶瓷濺射靶材，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)。金屬靶材：鎳靶、Ni、鈦靶、T濺射靶材i、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、濺射靶材不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

半導體、面板、PCB相關行業(yè)發(fā)展脈絡分析電子行業(yè)是發(fā)展新經濟的基石。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括第Ⅲ和第Ⅴ族化合物、第Ⅱ和第Ⅵ族化合物（硫化鎘、硫化鋅等）、氧化物（錳、鉻、鐵、銅的氧化物），一類是不改變材料的化學組成進行提純，在朝產業(yè)集群化的方向發(fā)展。半導體行業(yè)經常發(fā)生并購整合活動，為客戶提供滿足無論是在工業(yè)、汽車、個人電子或其他領域，據統(tǒng)計，存儲市場增速則達到57%，且中國一直長期是集成電路消費大國，一般都是包括主體型號、前綴、后綴等組成，成為業(yè)界追逐的一大風口，信息、通訊、消費電子及汽車電子等高等電子產品EMS、JDM、ODM為主。如二極管就是采用半導體制作的器件，缺“芯”已經稱為中國制造的一塊“芯”。計算機、移動電話或是數(shù)字錄音機當中的核心單元都和半導體有著極為密切的關連。

高純度濺射靶材的市場銷售額日益擴大,中國及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。研究用大量不同的沉積技術用來沉積生長各種薄膜。其中靶材是制作薄膜的關鍵，靶材品質的好壞對薄膜的意義重大。磁控膜玻璃出現(xiàn)脫膜現(xiàn)象幾大原因：原片存放因素，玻璃表面越新鮮，表面活性越大，與膜層的結合力越強，反之則差。使用存放期過長的玻璃，由于玻璃表面霉變和附著的污物會大量增加，而且附著力很強，清洗環(huán)節(jié)很難清除掉，這就造成膜層與基片的結合力大大降低，從而導致脫膜。水質的好壞對于鍍膜是至關重要的,連接水處理設備和清洗機水箱的管道應定期吹掃清洗。因為管道中若殘留不流動的水時間久了，會滋生細菌、藻類，在使用時會帶到水箱里。造成鍍膜不牢。

目前HJT市場以REC（梅耶博格設備為主）、通威（多個供應商設備整合）、鈞石（設備為主）為代表的技術路線受關注，三類路線分別采用了不同整線商方案，料都有所差異。隨著3類技術配置陸續(xù)給出量產結果，年有望完成HJT產線驗證期，屆時將會分曉哪種技術路線更具備性價比，適合大范圍推廣，從而推動GW級項目落地開啟產業(yè)化進程。產關鍵點在于PECVD。2019年海外應材和梅耶博格的PECVD價格接近5億元/GW，設備雖然成熟但價格太高，整線的設備投資達到7-8億元。對比海內外四大設備，海外設備較為成熟，價格較高不具備量產經濟性。RF DC新型電源的應用和特殊濺射陰極結構的設計也能有效的降低ITO薄膜的濺射電壓。從而達到降低薄膜電阻率的目的。是利用高密度的電弧等離子體（HDAP）放電轟擊ITO靶材，使ITO材料蒸發(fā)，成ITO薄膜。

合金靶材：鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。陶瓷靶材ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產業(yè)、節(jié)能綠色環(huán)保產業(yè)、新材料新技術開發(fā)和應用的重要高新技術企業(yè)。尤特以生產信息存儲記錄材料為起點，經過10多年的開拓與發(fā)展，產業(yè)技術不斷迭代與升級，尤特的技術及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學體系管理，先后通過《質量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行，產品符合全部環(huán)境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產品研發(fā)及技術創(chuàng)新，先后與"武漢大學"、"華南理工大學"、"中南大學"等高校、研究所建立"產學研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產權，是廣州市扶持科技型要點培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關機構的授予多個榮譽：如“國家生產力促進獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創(chuàng)造價值，分享價值“的核心價值觀，借鑒以往成功管理運營經驗，持續(xù)深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場，不斷拓寬市場應用領域，做優(yōu)做強鍍膜材料產業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

主營產品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
公司網址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

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