磁控濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高等裝飾用品等行業(yè)。透磁率可以作為評估磁性靶材透磁性能的有效指標(biāo)，其方法還沒有相應(yīng)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，很大程度上制約了國內(nèi)磁性濺射靶材的研發(fā)、制作及工業(yè)化生產(chǎn)。磁控靶的實際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關(guān)外，主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關(guān)。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同，分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種�？紤]到濺射靶長期使用老化后，其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數(shù)的不同，磁控靶的使用時的承載功率。

金屬銦具有延展性好，可塑性強(qiáng)，熔點低，沸點高，低電阻，抗腐蝕等優(yōu)良特性，且具有較好的光滲透性和導(dǎo)電性，被廣泛應(yīng)用于宇航、無線電和電子工業(yè)、國防、高新技術(shù)、能源等領(lǐng)域。生產(chǎn)ITO靶材（用于生產(chǎn)液晶顯示器和平板屏幕）是銦錠的主要消費領(lǐng)域，占大部分國家銦消費量的70%；其次電子半導(dǎo)體領(lǐng)域，占大部分國家消費量的12%。我國國內(nèi)的靶材市場需求也會大幅增加，同時，隨著國內(nèi)濺射靶材技術(shù)的不斷成熟，再加上其先天的性價比優(yōu)勢，預(yù)計2018年中國半導(dǎo)體靶材市場增速有望達(dá)到60%，遠(yuǎn)高于大部分國家平均水平。 結(jié)語 綜上，未來的2~3年，大部分國家靶材制造產(chǎn)業(yè)的產(chǎn)能增速會保持在3%~5%，而中國靶材市場的產(chǎn)能復(fù)合年增長率將達(dá)到30%以上！ 無。

隨著芯片的使用范圍越來越廣泛，芯片市場需求數(shù)量增長，對于鋁、鈦、鉭、銅這四種業(yè)界主流的薄膜金屬材料的需求也一定會有增長。種薄膜金屬材料的其他方案，所以這四種材料目前看不到被替代的風(fēng)險。在競爭格局上，由于濺射鍍膜工藝起源于國外，所需要的濺射靶材產(chǎn)品性能要求高，產(chǎn)主要集中在美國、日本少數(shù)幾家公司，產(chǎn)業(yè)集中度相當(dāng)高。以霍尼韋爾（美國）、日礦金屬（日本）、東曹（日本）等為代表的濺射靶材生產(chǎn)商占據(jù)大部分國家絕大部分市場份額。握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實施極其嚴(yán)格的保密措施，限制技術(shù)擴(kuò)散，同時不斷進(jìn)行橫向擴(kuò)張和垂直整合，將業(yè)務(wù)觸角積極擴(kuò)展到濺射鍍膜的各個應(yīng)用領(lǐng)域。市場的主動權(quán)，并帶領(lǐng)著大部分國家濺射靶材行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步。性價比。

美國、日本企業(yè)仍然占有大部分國家主要市場份額。 濺射鍍膜技術(shù)起源于國外，所需要的濺射材料——靶材也起源發(fā)展于國外。高純?yōu)R射靶材伴隨著半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展而興起，是典型的技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，以美、日企業(yè)為代表的國外企業(yè)占強(qiáng)勢地位。日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、住友化學(xué)、愛發(fā)科等占據(jù)著大部分國家靶材市場的 80%的份額，****國內(nèi)。靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。ito。

主營產(chǎn)品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉(zhuǎn)靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
公司網(wǎng)址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

地區(qū)：廣東 廣州 花都區(qū)
網(wǎng)址: http://UVTMCOM.glass.com.cn

產(chǎn)品屬性：
計量單位：套 供貨總量：9999 最小起訂量：10 產(chǎn)品單價：3000.00 品牌： 規(guī)格型號： 包裝說明：